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桂寧 · 核心產(chǎn)品介紹
Design team with more than 10 years of experience
Equipped with advanced domestic production equipment
Rigorous quality inspection at every level
We take responsibility for each stage of the production process
產(chǎn)品列表
型號(hào)：3s
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型號(hào)：TIR100-2
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桂寧 · 技術(shù)文章
2026年3月，國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體材料領(lǐng)域傳來(lái)重磅消息。鼎龍股份、容大感光、徐州博康三家企業(yè)同步宣布重大進(jìn)展：KrF/ArF光刻膠從技術(shù)研發(fā)正式邁入規(guī)模化量產(chǎn)階段，長(zhǎng)期以來(lái)由日美企業(yè)主導(dǎo)的市場(chǎng)格局正在被打破。消息一出，光刻膠板塊迅速升溫，資金關(guān)注度明顯提升。在這場(chǎng)自主可控的浪潮中，哪些企業(yè)值得重點(diǎn)關(guān)注？事件背景：光刻膠國(guó)產(chǎn)化迎來(lái)實(shí)質(zhì)突破受地緣政治影響，日美曾收緊光刻膠對(duì)華出口，國(guó)內(nèi)晶圓廠的ArF光刻膠庫(kù)存一度不足30天。而隨著鼎龍股份（300噸）、南大光電（500噸）以及徐州博康的產(chǎn)...
高速分散乳化機(jī)是一種集高速剪切、分散、均質(zhì)、乳化和溶解功能于一體的多功能流體處理設(shè)備，廣泛應(yīng)用于精細(xì)化工、食品、制藥、化妝品、涂料、油墨及納米材料等領(lǐng)域，用于制備穩(wěn)定、均勻、細(xì)膩的乳液、懸浮液或膏狀產(chǎn)品。其核心工作原理是利用高速旋轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)子（通常轉(zhuǎn)速達(dá)3,000–12,000rpm）與精密配合的定子之間形成的狹小間隙，產(chǎn)生強(qiáng)烈的機(jī)械剪切力、液力空穴效應(yīng)和湍流沖擊。物料在吸入腔內(nèi)被迅速卷入，在轉(zhuǎn)定子區(qū)域經(jīng)歷數(shù)十萬(wàn)次/分鐘的剪切與撞擊，使液滴或顆粒被破碎至微米甚至亞微米級(jí)（可達(dá)0....
高速分散乳化機(jī)是一種集高速剪切、分散、均質(zhì)、乳化和溶解功能于一體的多功能流體處理設(shè)備，廣泛應(yīng)用于精細(xì)化工、食品、制藥、化妝品、涂料、油墨及納米材料等領(lǐng)域，用于制備穩(wěn)定、均勻、細(xì)膩的乳液、懸浮液或膏狀產(chǎn)品。其核心工作原理是利用高速旋轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)子（通常轉(zhuǎn)速達(dá)3,000–12,000rpm）與精密配合的定子之間形成的狹小間隙，產(chǎn)生強(qiáng)烈的機(jī)械剪切力、液力空穴效應(yīng)和湍流沖擊。物料在吸入腔內(nèi)被迅速卷入，在轉(zhuǎn)定子區(qū)域經(jīng)歷數(shù)十萬(wàn)次/分鐘的剪切與撞擊，使液滴或顆粒被破碎至微米甚至亞微米級(jí)（可達(dá)0....
在芯片制造那如同納米級(jí)雕刻的精密世界里，有一種材料雖不起眼，卻起著至關(guān)重要的作用——光刻膠。它就像傳統(tǒng)攝影中的底片，負(fù)責(zé)記錄下掩模版上的電路圖案，并精準(zhǔn)地轉(zhuǎn)印到硅晶圓上。別看它只是薄薄一層，其背后卻隱藏著復(fù)雜的化學(xué)配方、精密的厚度設(shè)計(jì)，以及與刻蝕工藝之間環(huán)環(huán)相扣的配合。而在實(shí)際生產(chǎn)中，光刻膠的每一項(xiàng)參數(shù)都像是一個(gè)可調(diào)節(jié)的旋鈕，工程師通過(guò)精細(xì)調(diào)控這些變量，來(lái)確保圖形轉(zhuǎn)移的精確度。光刻膠的“配方密碼”光刻膠的調(diào)配，堪比調(diào)制一味復(fù)雜的藥方，通常包含三大核心組分。首先，聚合物樹(shù)脂是它...
在平板顯示產(chǎn)業(yè)鏈中，顯示光刻膠是關(guān)鍵電子化學(xué)品，也是決定面板精度、畫(huà)質(zhì)與良率的耗材。區(qū)別于半導(dǎo)體光刻膠、PCB光刻膠，顯示光刻膠專攻面板制造領(lǐng)域，貫穿TFT-LCD、AMOLED、Mini/MicroLED等全品類顯示器件制程，是顯示產(chǎn)業(yè)自主可控進(jìn)程中不可忽視的細(xì)分賽道。本文為您客觀解讀顯示光刻膠的本質(zhì)、分類與產(chǎn)業(yè)價(jià)值。顯示光刻膠的標(biāo)準(zhǔn)定義與原理顯示光刻膠屬于光致抗蝕劑范疇，是由樹(shù)脂、光引發(fā)劑、溶劑及助劑組成的高分子聚合物混合材料，對(duì)g-line(436nm)、i-line(...
顯影工序通過(guò)光化學(xué)反應(yīng)有選擇性地移除曝光或未曝光區(qū)域，實(shí)現(xiàn)圖形的高保真轉(zhuǎn)移，其核心價(jià)值在于精確性；剝離工藝則在刻蝕或注入完成后，無(wú)差別地全面清除已硬化的光刻膠，恢復(fù)晶圓表面的潔凈狀態(tài)。在芯片制造的復(fù)雜流程中，光刻膠扮演著臨時(shí)性圖形媒介的關(guān)鍵角色。這種材料需要經(jīng)歷兩次截然不同的"消逝"過(guò)程：首先是顯影階段，其次是剝離環(huán)節(jié)。盡管這兩道工序都涉及光刻膠的去除，但其作用機(jī)理、工藝目標(biāo)及化學(xué)原理卻大相徑庭。深入理解二者的差異，便能把握光刻工藝如何從"圖形繪制"階段過(guò)渡到"使命完成"階段...
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德國(guó)Elma超聲波清洗機(jī) 美國(guó)Branson必能信 超聲波處理器關(guān)于我們
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