彩色濾光片光刻膠（Color Filter Photoresist, CF光刻膠）是顯示光刻膠中價值量最大、種類最多的部分。與TFT光刻膠不同，CF光刻膠在光刻成型后會保留在面板內部，直接參與畫面的顯示。彩色光刻膠（RGB Resist）： 包含紅（R）、綠（G）、藍（B）三種顏色的光刻膠。它們內部添加了納米級的彩色顏料，光刻成型后構成彩色像素點，是液晶顯示器實現色彩的關鍵。黑色光刻膠（Black Matrix, BM）：用于隔離RGB像素，防止漏光和混色，提升屏幕對比度。

黑色光刻膠實驗室研發工藝流程

1. 涂布

使用透明基板（玻璃、耐熱樹脂等，可帶ITO電極或TFT陣列）。

涂布方式：旋涂、線棒涂布、流延涂布、狹縫涂布、輥涂、噴涂等。

干燥后膜厚目標：0.5～3μm

2. 干燥

減壓干燥：真空干燥裝置，100 Pa，30秒。

加熱干燥：熱板或烘箱，110℃加熱120秒。

溫度過高會分解堿溶性樹脂或引發熱聚合，溫度過低則干燥不均。

3. 曝光

使用負性光掩模，在涂膜上覆蓋掩模圖案。

光源：超高壓汞燈，波長以365nm（i線）為主。

曝光強度：45 mW/cm2，曝光量：50 mJ/cm2（全面曝光用于測試基板）。

4. 顯影

顯影液：0.04% KOH水溶液。

顯影方式：噴淋顯影，水壓0.05 MPa，23℃，80秒。

之后停止顯影用純水洗凈，也可使用含界面活性劑的堿性水溶液或有機溶劑。

5. 熱固化

溫度：230℃，時間：30分鐘（常規測試）。熱固化后完成黑色矩陣。

黑色光刻膠遮光性能評價方法

光學密度(Optical Density,OD)是表征黑色矩陣遮光性能的常用光學參數,OD值越高,黑色矩陣遮光性能越高,防止彩色像素之間色彩干擾能力越強,圖像的顯示對比度越好。通常用單位膜厚光學密度（單位OD值，OD/μm）計算表示：OD/μm = 實測OD值 / 實測膜厚（μm），單位OD測試值≥ 4.0/μm以上，BM遮光性能優異。

測試步驟

光學密度（OD值）：使用Labodorf 351C透射密度計測量; 膜厚：白光干涉顯微鏡測量

1. 連接電源開機后用出廠隨機標準光密度片進行調零校準，3點標準片OD值測量確認無誤后，光密度儀準備完畢。

2. 將BM樣品放到測量孔上方，按下測量臂，即得黑色光刻膠樣品OD值。